加入日期
2017年07月27日
所屬地區(qū)
云南省
進展階段
審批公示
正文內(nèi)容
項目名稱：氮化鎵(GaN)外延片及微波功率器件產(chǎn)業(yè)化項目
項目概況：氮化鎵(GaN)外延片及微波功率器件產(chǎn)業(yè)化項目，建設地點位于云南省昆明空港經(jīng)濟區(qū)，總占地面積100085m2，總建筑面積36204.65m2。建設兩條完整的生產(chǎn)線，年產(chǎn)氮化鎵外延片9萬片、軍用雷達微波功率器件5萬枚、5G通信功率器件及其他器件6000萬枚?？偼顿Y120030萬元，其中環(huán)保投資1343萬元。2017 年 11 月計劃
開工建設，2018 年 12 月月底建好完工交付使用。
本項目主要建設內(nèi)容
類型
建設名稱 設計參數(shù) 備注
主體工程
生產(chǎn)廠房一 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房二 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房三 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房四 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
動力氣體廠房 1層，建筑面積876.04m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 7.8m，主
要用于存放氮氣、氧氣、氬氣、
氦氣、氨氣、氫氣、硅烷平衡
氮氣、氯氣、氯氮混合氣體、
三氯化硼、一氧化二氮、CF4等氣體
貯運工程
化學品庫 1層，建筑面積298.76m2
混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放生產(chǎn)過程中使用的化學品（正膠
顯影液、異丙醇、雙氧水、Ti腐蝕液、氫氧化鈉），為甲類倉庫
綜合倉庫
1 層，建筑面積3495.28m2
混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放部
分原料（碳化硅襯底、藍寶石
襯底、硅襯底、三甲基鎵、三
甲基鋁、光刻膠、去膠液、拋
光液、剝離液、去蠟液、Au 腐
蝕液、電鍍金液、金、鈦、鈦鎢、鉑）和產(chǎn)品
公用工程
給水工程
新鮮水需要量 28.53 萬m3/a
由園區(qū)自來水廠供應
排水工程
各種廢水：11.59 萬 m3/a 經(jīng)處理后全部回用，不外排
雨水 排入園區(qū)雨水管網(wǎng)
供電工程 1500 萬 kWh 園區(qū)供電
供氣系統(tǒng) 16.2 萬 m3/a 由園區(qū)燃氣管網(wǎng)提供
供熱系統(tǒng) 1 臺 1t/h 燃氣熱水鍋爐
蒸汽經(jīng)換熱站換熱為凈化空調(diào)
管道系統(tǒng)內(nèi)循環(huán)用水進行加
熱，蒸汽鍋爐天然氣耗量75m3/h。
純水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 10t/h 位于純水站
軟水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 1.5t/h 位于鍋爐房，給提供鍋爐用水
循環(huán)冷卻系統(tǒng) 660 m3/h 3 臺 220 m3/h 冷卻塔
冷水機組 共 7 臺 3 臺 2285MW、4 臺 2637MW
潔凈系統(tǒng) 4 套風量 72000m3/h
外延 MOCVD 區(qū)設備操作區(qū)凈
化級別為 1000 級，生產(chǎn)設備區(qū)
凈化 10000 級，封裝生產(chǎn)區(qū)域
為 10000 級。生產(chǎn)廠房氣流組
織為上送下側(cè)回。房間吊頂上
均勻布置高效送風口，房間側(cè)
下壁板上布置格柵回風口。室
外新風經(jīng)集中處理后與室內(nèi)回
風混合后經(jīng)過濾及冷熱處理
后，由高效送風口送入潔凈室，
回風經(jīng)格柵風口回至主回風管道。
空壓站 900 m3/h 1 臺空壓機
綠化 19575m2 綠化率 19.56%
消防水池 1 座，500m3 位于綜合動力站
綜合動力站 3495.28m2
輔助工程
綜合辦公樓
6 層樓，建筑面積
15347.82m2，最高21.45m
產(chǎn)品展示、辦公、會議、院士
工作站及實驗工程研究中心等
食堂及倒班宿舍
5 層樓，建筑面積
6406.4m2，最高 18.15m
食堂及員工倒班宿舍，其中一
樓為食堂，2~5 樓為職工宿舍
安檢大廳及辦公樓
2 層樓，建筑面積2224.4m2，最高 7.8m
一樓對進出生產(chǎn)廠房的員工進
行安檢，二樓為生產(chǎn)系統(tǒng)部分員工的辦公
環(huán)保工程
廢氣 布袋收塵器
1 套+1#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
處理激光標刻、打孔、劃片粉塵
房和四號廠房之間
Scrubber 燃燒器
1 套+2#15 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理 MOCVD 廢氣 NH3、H2、CH4
堿液噴淋塔
1 套+3#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理 MOCVD、PECVD 清理廢
氣 Cl2 和蝕刻廢氣 Cl2
活性炭吸附裝置
1 套+4#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理光刻工序產(chǎn)生的有機廢氣（VOC）
氟化物裂解反應爐
1 套+5#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理鈍化、場板腐蝕產(chǎn)生的氟
化物
鍋爐排氣筒
1 套+6#25 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
外排鍋爐燃氣廢氣
油煙凈化處理器
1 套+7#20 米高排氣筒，
排氣筒位于宿舍樓，排
氣筒朝南，油煙凈化器
安裝在食堂廚房
處理食堂油煙
廢水
隔油池 1 個，5m3 食堂廢水隔油處理
化糞池
1 個為 20m3，一個為10m3
分別位于宿舍樓和辦公樓
廠內(nèi)生產(chǎn)廢水預
處理站（中和處理） 1 座，處理規(guī)模 150m3/d
位于廠區(qū)西北側(cè)
中水站（ICEAS工藝處理）
1座，處理規(guī)模490m3/d，
其中清水池一座，容積
為 320m3（可以容納 1天的中水）
事故應急水池
1 座，400 m3（可以容納
1 天的所有廢水）
位于生產(chǎn)廢水預處理設施旁邊
噪聲處理
減振、隔聲、合理布局、
廠區(qū)綠化等 /
固廢
一般固廢暫存處 1 間，50 m2
位于工廠的北面，化學品庫旁邊
危險廢物暫存處 1 間，50 m2
位于工廠的北面，化學品庫旁邊
圍堰有效容（m3）/高度（m）
三甲基鎵 5.5/0.2
位于綜合倉庫，在堆放上述物
料的地方設置一個圍堰
三甲基鋁
光刻膠
去膠液
拋光液
剝離液
去蠟液
Au 腐蝕液
電鍍金液
正膠顯影液 3.0/0.2
位于化學品庫，在堆放上述物
料的地方設置一個圍堰
異丙醇
雙氧水
Ti 腐蝕液
項目主要生產(chǎn)設備
序號 設備名稱 數(shù)量
基本參數(shù)或功能描述 廠家信息
1 MOCVD 4 氮化鎵生長
Germany
Aixtron
Veeco USA 2
高真空蒸發(fā)鍍膜設備(Metal)
4 電力規(guī)格：AC200V±10%，φ3，50/60Hz Japan ULVAC
3 真空濺射鍍膜設備 4
極限真空度：單開分子泵系統(tǒng)時，,8.5x10-6
Pa 開離子泵系統(tǒng)時，8.5x10-7
Pa 擴散泵系統(tǒng),8x10-4 Pa 2,真空
抽速：從大氣達到 7x10-4 Pa,<40 分鐘。
3.可制備最大為 φ100mm 的薄膜樣品 Japan ULVAC
4 ICP 刻蝕臺 4
13.56MHZ 全固態(tài)技術(shù);動態(tài)諧調(diào) RF 發(fā)
生器功率 600-1600W
北方微電子 Japan ULVAC
牛津儀器
5 PECVD 4
工作頻率 2.45GHZ 功率范圍：2600-3200W
北方微電子
牛津儀器
6 快速退火爐 3
W*L*H 800x1300x1900mm
USA Allwin21 Corp
電力規(guī)格：
380V-125A
3?/4W-50/60Hz
7 四探針測試臺 2
功率:35W 廣州昆德科技
有限公司
可測電阻率：0.001～1000Ω.cm 可測方
塊電阻:0.01～10000Ω/□
8 雙面曝光機 2
4-6inch，backside lithography，
resolution 0.5um。
Germany SUSS MicroTec
9 投影光刻機 4 PAS 5500-750 resolution 0.13um. Nederland ASML
10 Matrix 105R 等離子去膠機
4 清洗殘膠 USA Allwin21 Corp
11 PCT-150 自動上光阻機 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK
12 自動顯影臺 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK
13 自動上蠟機 2 高溫臘 Korea NTS
14 垂直自動減薄機 2 Wafer grinding Korea NTS
15 粗拋機 2 polishing NTS
16 激光劃片機 4 cutter 江蘇德龍
17 金屬剝離機 5 Lift off Austria SSEC
18 SPM 清洗槽和有機清洗 8 Wafer cleaning 河北神通
19 腐蝕槽 3 Wafer cleaning 河北神通
20 Keithley2400 4 testing USA Keithley
21 Keithley4200 直流測試系統(tǒng)
2 testing USA Algilent
22 掃描電子顯微鏡 2 Process check Japan HITACHI
23 臺階儀 2 Process testing USA Ambios
24 空氣共平面 G-S-G 探針測量臺
2 Microwave parameter Testing
Cascade Microtech
25 PNA E8363B 高性能矢
量網(wǎng)絡分析儀
2 Microwave parameter testing USA Algilent
26 HMDS 預處理烘箱 4
功率:2000W;容器:90L;電源電
壓:220V±10;尺寸（mm）:450×450×450
上海劵思實驗
儀器
27 電熱真空干燥箱 4 30-300℃ 上海實驗儀器
28 離子注入機 2 200Kev,large beam current Japan ULVAC
29 電鍍臺 4 electroplating Au 河北申通
30 Load pull 系統(tǒng) 2 Microwave parameter testing USA EOULU
31 甩干機 5 Rinse 中電 45 所
32 E-beam lithography 2
Resolution 50nm.Overlay
30nm,8 inch stage The UK leica.
33 手動探針臺 4 Process testing 河北神通
34 MBE 2 氮化鋁生長 北方微電子
35 烤盤爐 4 處理石墨盤
36 XRD(X 光衍射儀) 2 XPertPRO
Panalytical(帕納科)
37 霍爾測試儀 2 HL5500PC 德儀科技
38 金相顯微鏡 20 BX51M 利訊科技
39 EL 量測試統(tǒng) 2 Nanometrics-RPMBlue Nanometrics
40 PL 光譜測量 2 ELV1-MP3 宏綱科技公司
41 激光打標機 2 ILS-II-30w 雷晟科技
42 氦氣檢漏儀 3 UL-1000 Fab Inficon
43 全自動晶片劈裂機 10 芯片開裂 Opto System
44 芯片點測機 10 抽測芯片 李德精儀
45 自動貼膜機 5 倒藍膜 李德精儀
46 自動擴片機 5 晶片擴大 李德精儀
47 金線打線機 6 打金線
達運工業(yè)股份有限公司
48 恒溫恒濕測試機組 2 老化篩選 遠方科技
49 推拉力機 2 可靠性
達運工業(yè)股份有限公司
50 老化工作箱 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
51 高溫老化測試臺 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
52 Semi-Auto Parts Cleaner 5 PC-001A
錫宬科技有限公司
53 Ebara Dry pump 5 ESA70WD 荏原公司(上海)
54 爐管合金爐 2 金屬合金 青島賽瑞達
55 低溫測試機組 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
56 Spectrum Analyzer 1 26.5GHz or 40GHz Agilent
57 Power meter
3 Power load, Attenuators, couplers Agilent 功率計
58 微波功率放大器 2 18GHz or 26.5GHz
59 Microwave signal sweeping source （信號源）
2 40GHz Agilent
60 Oscilloscope 2 Agilent
61 Noise figure analyzer 噪
音分析儀 1 Agilent
62 Microwave probe system 1 Floating
63 ADS software 1
Microwave circuit simulation and 3D
PCB simulation Agilent
64 HFSS 1 3D Electrical-magnetic simulation Ansoft
65 IC-CAP 1 Microwave device modeling
66 Auto-welding/bonding 3 器件封裝
67 金硅共融焊接設備 1 大功率器件封裝
68 其他輔助生產(chǎn)設施
建設單位：云南凝慧電子科技有限公司
環(huán)評單位：湖南景璽環(huán)?？萍加邢薰?/div>
| 加入日期 | 2017年07月27日 | 所屬地區(qū) | 云南省 | 進展階段 | 審批公示 |
|---|
正文內(nèi)容
項目概況：氮化鎵(GaN)外延片及微波功率器件產(chǎn)業(yè)化項目，建設地點位于云南省昆明空港經(jīng)濟區(qū)，總占地面積100085m2，總建筑面積36204.65m2。建設兩條完整的生產(chǎn)線，年產(chǎn)氮化鎵外延片9萬片、軍用雷達微波功率器件5萬枚、5G通信功率器件及其他器件6000萬枚?？偼顿Y120030萬元，其中環(huán)保投資1343萬元。2017 年 11 月計劃
開工建設，2018 年 12 月月底建好完工交付使用。
本項目主要建設內(nèi)容
類型
建設名稱 設計參數(shù) 備注
主體工程
生產(chǎn)廠房一 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房二 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房三 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
生產(chǎn)廠房四 2 層，建筑面積 12648m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 8m；1 層
氮化鎵外延片和功率器件生產(chǎn)，2 層封裝線
動力氣體廠房 1層，建筑面積876.04m2
鋼結(jié)構(gòu)廠房，層高 7.8m，主
要用于存放氮氣、氧氣、氬氣、
氦氣、氨氣、氫氣、硅烷平衡
氮氣、氯氣、氯氮混合氣體、
三氯化硼、一氧化二氮、CF4等氣體
貯運工程
化學品庫 1層，建筑面積298.76m2
混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放生產(chǎn)過程中使用的化學品（正膠
顯影液、異丙醇、雙氧水、Ti腐蝕液、氫氧化鈉），為甲類倉庫
綜合倉庫
1 層，建筑面積3495.28m2
混凝土結(jié)構(gòu)，主要用于存放部
分原料（碳化硅襯底、藍寶石
襯底、硅襯底、三甲基鎵、三
甲基鋁、光刻膠、去膠液、拋
光液、剝離液、去蠟液、Au 腐
蝕液、電鍍金液、金、鈦、鈦鎢、鉑）和產(chǎn)品
公用工程
給水工程
新鮮水需要量 28.53 萬m3/a
由園區(qū)自來水廠供應
排水工程
各種廢水：11.59 萬 m3/a 經(jīng)處理后全部回用，不外排
雨水 排入園區(qū)雨水管網(wǎng)
供電工程 1500 萬 kWh 園區(qū)供電
供氣系統(tǒng) 16.2 萬 m3/a 由園區(qū)燃氣管網(wǎng)提供
供熱系統(tǒng) 1 臺 1t/h 燃氣熱水鍋爐
蒸汽經(jīng)換熱站換熱為凈化空調(diào)
管道系統(tǒng)內(nèi)循環(huán)用水進行加
熱，蒸汽鍋爐天然氣耗量75m3/h。
純水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 10t/h 位于純水站
軟水系統(tǒng) 1 套，產(chǎn)水規(guī)模 1.5t/h 位于鍋爐房，給提供鍋爐用水
循環(huán)冷卻系統(tǒng) 660 m3/h 3 臺 220 m3/h 冷卻塔
冷水機組 共 7 臺 3 臺 2285MW、4 臺 2637MW
潔凈系統(tǒng) 4 套風量 72000m3/h
外延 MOCVD 區(qū)設備操作區(qū)凈
化級別為 1000 級，生產(chǎn)設備區(qū)
凈化 10000 級，封裝生產(chǎn)區(qū)域
為 10000 級。生產(chǎn)廠房氣流組
織為上送下側(cè)回。房間吊頂上
均勻布置高效送風口，房間側(cè)
下壁板上布置格柵回風口。室
外新風經(jīng)集中處理后與室內(nèi)回
風混合后經(jīng)過濾及冷熱處理
后，由高效送風口送入潔凈室，
回風經(jīng)格柵風口回至主回風管道。
空壓站 900 m3/h 1 臺空壓機
綠化 19575m2 綠化率 19.56%
消防水池 1 座，500m3 位于綜合動力站
綜合動力站 3495.28m2
輔助工程
綜合辦公樓
6 層樓，建筑面積
15347.82m2，最高21.45m
產(chǎn)品展示、辦公、會議、院士
工作站及實驗工程研究中心等
食堂及倒班宿舍
5 層樓，建筑面積
6406.4m2，最高 18.15m
食堂及員工倒班宿舍，其中一
樓為食堂，2~5 樓為職工宿舍
安檢大廳及辦公樓
2 層樓，建筑面積2224.4m2，最高 7.8m
一樓對進出生產(chǎn)廠房的員工進
行安檢，二樓為生產(chǎn)系統(tǒng)部分員工的辦公
環(huán)保工程
廢氣 布袋收塵器
1 套+1#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
處理激光標刻、打孔、劃片粉塵
房和四號廠房之間
Scrubber 燃燒器
1 套+2#15 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理 MOCVD 廢氣 NH3、H2、CH4
堿液噴淋塔
1 套+3#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理 MOCVD、PECVD 清理廢
氣 Cl2 和蝕刻廢氣 Cl2
活性炭吸附裝置
1 套+4#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理光刻工序產(chǎn)生的有機廢氣（VOC）
氟化物裂解反應爐
1 套+5#27 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
處理鈍化、場板腐蝕產(chǎn)生的氟
化物
鍋爐排氣筒
1 套+6#25 米高排氣筒，
排氣筒位于動力氣體廠
房和四號廠房之間
外排鍋爐燃氣廢氣
油煙凈化處理器
1 套+7#20 米高排氣筒，
排氣筒位于宿舍樓，排
氣筒朝南，油煙凈化器
安裝在食堂廚房
處理食堂油煙
廢水
隔油池 1 個，5m3 食堂廢水隔油處理
化糞池
1 個為 20m3，一個為10m3
分別位于宿舍樓和辦公樓
廠內(nèi)生產(chǎn)廢水預
處理站（中和處理） 1 座，處理規(guī)模 150m3/d
位于廠區(qū)西北側(cè)
中水站（ICEAS工藝處理）
1座，處理規(guī)模490m3/d，
其中清水池一座，容積
為 320m3（可以容納 1天的中水）
事故應急水池
1 座，400 m3（可以容納
1 天的所有廢水）
位于生產(chǎn)廢水預處理設施旁邊
噪聲處理
減振、隔聲、合理布局、
廠區(qū)綠化等 /
固廢
一般固廢暫存處 1 間，50 m2
位于工廠的北面，化學品庫旁邊
危險廢物暫存處 1 間，50 m2
位于工廠的北面，化學品庫旁邊
圍堰有效容（m3）/高度（m）
三甲基鎵 5.5/0.2
位于綜合倉庫，在堆放上述物
料的地方設置一個圍堰
三甲基鋁
光刻膠
去膠液
拋光液
剝離液
去蠟液
Au 腐蝕液
電鍍金液
正膠顯影液 3.0/0.2
位于化學品庫，在堆放上述物
料的地方設置一個圍堰
異丙醇
雙氧水
Ti 腐蝕液
項目主要生產(chǎn)設備
序號 設備名稱 數(shù)量
基本參數(shù)或功能描述 廠家信息
1 MOCVD 4 氮化鎵生長
Germany
Aixtron
Veeco USA 2
高真空蒸發(fā)鍍膜設備(Metal)
4 電力規(guī)格：AC200V±10%，φ3，50/60Hz Japan ULVAC
3 真空濺射鍍膜設備 4
極限真空度：單開分子泵系統(tǒng)時，,8.5x10-6
Pa 開離子泵系統(tǒng)時，8.5x10-7
Pa 擴散泵系統(tǒng),8x10-4 Pa 2,真空
抽速：從大氣達到 7x10-4 Pa,<40 分鐘。
3.可制備最大為 φ100mm 的薄膜樣品 Japan ULVAC
4 ICP 刻蝕臺 4
13.56MHZ 全固態(tài)技術(shù);動態(tài)諧調(diào) RF 發(fā)
生器功率 600-1600W
北方微電子 Japan ULVAC
牛津儀器
5 PECVD 4
工作頻率 2.45GHZ 功率范圍：2600-3200W
北方微電子
牛津儀器
6 快速退火爐 3
W*L*H 800x1300x1900mm
USA Allwin21 Corp
電力規(guī)格：
380V-125A
3?/4W-50/60Hz
7 四探針測試臺 2
功率:35W 廣州昆德科技
有限公司
可測電阻率：0.001～1000Ω.cm 可測方
塊電阻:0.01～10000Ω/□
8 雙面曝光機 2
4-6inch，backside lithography，
resolution 0.5um。
Germany SUSS MicroTec
9 投影光刻機 4 PAS 5500-750 resolution 0.13um. Nederland ASML
10 Matrix 105R 等離子去膠機
4 清洗殘膠 USA Allwin21 Corp
11 PCT-150 自動上光阻機 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK
12 自動顯影臺 3 兩軌，帶冷板和熱板 USA PICOTRACK
13 自動上蠟機 2 高溫臘 Korea NTS
14 垂直自動減薄機 2 Wafer grinding Korea NTS
15 粗拋機 2 polishing NTS
16 激光劃片機 4 cutter 江蘇德龍
17 金屬剝離機 5 Lift off Austria SSEC
18 SPM 清洗槽和有機清洗 8 Wafer cleaning 河北神通
19 腐蝕槽 3 Wafer cleaning 河北神通
20 Keithley2400 4 testing USA Keithley
21 Keithley4200 直流測試系統(tǒng)
2 testing USA Algilent
22 掃描電子顯微鏡 2 Process check Japan HITACHI
23 臺階儀 2 Process testing USA Ambios
24 空氣共平面 G-S-G 探針測量臺
2 Microwave parameter Testing
Cascade Microtech
25 PNA E8363B 高性能矢
量網(wǎng)絡分析儀
2 Microwave parameter testing USA Algilent
26 HMDS 預處理烘箱 4
功率:2000W;容器:90L;電源電
壓:220V±10;尺寸（mm）:450×450×450
上海劵思實驗
儀器
27 電熱真空干燥箱 4 30-300℃ 上海實驗儀器
28 離子注入機 2 200Kev,large beam current Japan ULVAC
29 電鍍臺 4 electroplating Au 河北申通
30 Load pull 系統(tǒng) 2 Microwave parameter testing USA EOULU
31 甩干機 5 Rinse 中電 45 所
32 E-beam lithography 2
Resolution 50nm.Overlay
30nm,8 inch stage The UK leica.
33 手動探針臺 4 Process testing 河北神通
34 MBE 2 氮化鋁生長 北方微電子
35 烤盤爐 4 處理石墨盤
36 XRD(X 光衍射儀) 2 XPertPRO
Panalytical(帕納科)
37 霍爾測試儀 2 HL5500PC 德儀科技
38 金相顯微鏡 20 BX51M 利訊科技
39 EL 量測試統(tǒng) 2 Nanometrics-RPMBlue Nanometrics
40 PL 光譜測量 2 ELV1-MP3 宏綱科技公司
41 激光打標機 2 ILS-II-30w 雷晟科技
42 氦氣檢漏儀 3 UL-1000 Fab Inficon
43 全自動晶片劈裂機 10 芯片開裂 Opto System
44 芯片點測機 10 抽測芯片 李德精儀
45 自動貼膜機 5 倒藍膜 李德精儀
46 自動擴片機 5 晶片擴大 李德精儀
47 金線打線機 6 打金線
達運工業(yè)股份有限公司
48 恒溫恒濕測試機組 2 老化篩選 遠方科技
49 推拉力機 2 可靠性
達運工業(yè)股份有限公司
50 老化工作箱 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
51 高溫老化測試臺 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
52 Semi-Auto Parts Cleaner 5 PC-001A
錫宬科技有限公司
53 Ebara Dry pump 5 ESA70WD 荏原公司(上海)
54 爐管合金爐 2 金屬合金 青島賽瑞達
55 低溫測試機組 5 可靠性測試
達運工業(yè)股份有限公司
56 Spectrum Analyzer 1 26.5GHz or 40GHz Agilent
57 Power meter
3 Power load, Attenuators, couplers Agilent 功率計
58 微波功率放大器 2 18GHz or 26.5GHz
59 Microwave signal sweeping source （信號源）
2 40GHz Agilent
60 Oscilloscope 2 Agilent
61 Noise figure analyzer 噪
音分析儀 1 Agilent
62 Microwave probe system 1 Floating
63 ADS software 1
Microwave circuit simulation and 3D
PCB simulation Agilent
64 HFSS 1 3D Electrical-magnetic simulation Ansoft
65 IC-CAP 1 Microwave device modeling
66 Auto-welding/bonding 3 器件封裝
67 金硅共融焊接設備 1 大功率器件封裝
68 其他輔助生產(chǎn)設施
建設單位：云南凝慧電子科技有限公司
環(huán)評單位：湖南景璽環(huán)?？萍加邢薰?/div>
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